Vanadiumonzuiverheden in titaniumbuizen zijn voornamelijk VOCL3 en een kleine hoeveelheid discretionaire VCI4, waarvan de aanwezigheid een gele kleur geeft aan TC4 -titaniumlegering. Het doel van het verfijnen van vanadiumverwijdering is niet alleen voor ontkleuring, maar ook voor zuurstofverwijdering. Dit is een uiterst belangrijk onderdeel van het raffinageproces.
Titaniumbuizen en vanadiumonzuiverheden vragen discretionaire kookpuntverschil en relatieve volatiliteit zijn relatief klein, zoals titaniumbuizen - VOCL3 -systeem van twee componenten van het kookpuntverschil van 10 graden Celsius, de relatieve volatiliteit d=1. 22; en TC4 titaniumlegering buizen - VCL4 -systeem van twee kookpuntverschil van 14 graden Celsius. Desalniettemin is het gebruik van fysieke methoden om vanadiumonzuiverheden mogelijk te verwijderen, zoals het gebruik van zeer efficiënte destillatietoren naast vanadium. De voordelen van deze methode zijn niet nodig om chemische reagentia te gebruiken, het verfijnen van de continue productie van het proces, gemakkelijk te realiseren automatisering, gescheiden VOCL3 en VCL4 kunnen direct worden gebruikt. Het nadeel is dat het energieverbruik, de investering van apparatuur, maar ook de structuur van krachtige waterkoker moet oplossen, Put is nog niet toegepast in de industrie.
Bovendien is TC4 titaniumlegering buis - v 0 CL3 -systeem van twee componenten van het disticificatiepuntverschil groot, ongeveer 54 graden Celsius verschil, dus kan ook worden gebruikt naast de bevriezingskristallisatiemethode van VOCI3 maar bevriezende consumeert veel energie, dus het heeft geen geïndaneerde industriële toepassing. Voor deze vaak gebruikte chemische methode naast vanadium, is de chemische methode naast Vanadium een chemisch reagens toegevoegd aan de titaniumbuis, zodat VOCL3 (of VCL4) onzuiverheden selectieve reductie of selectieve neerslag of selectieve alumverbindingen en TC4 -titaniumbuizen gescheiden van elkaar gescheiden of selectieve adsorptie van vocl3 (of VCL4), dus het van vocl3 (of VCL4), dus het tc4. Titaniumbuizen gescheiden van elkaar; of selectieve oplossing van VOCL2, zodat de alumonzuiverheden en 7ische legeringsbuizen. Alumonzuiverheden en 7icld scheiden van elkaar. Men kan gezegd dat een meer ideale procesapparatuur eenvoudige lange lage kosten, goede arbeidsomstandigheden, maar ook gemakkelijk te realiseren dat de continue werking van het verwijderingsproces van Vanadium nog niet is vastgesteld. Dit is ook het TC4 -titanium legeringsraffinageproces moet het onderwerp bestuderen.
